В настоящее время значительная часть экспериментальных работ в области голографии осуществляется с использованием несеребряных светочувствительных материалов. Это обусловлено тем, что для практической реализации и широкого внедрения голографических методов в различные области науки и техники требуются среды с достаточно высокой разрешающей способностью, чувствительностью, дифракционной эффективностью и отношением "сигнал-шум", низким уровнем пространственных шумов и нелинейностей, большим динамическим диапазоном, на требующие сложной обработки для визуализации голографического изображения и допускающие возможность работы в реальном масштабе времени /1/. Существенное значение имеет технологичность их изготовления и стоимость. Последнее в значительной степени обусловлено острым дефицитом мировых запасов серебра, наблюдаемым в настоящее время /2/.

Для указанных целей используются среды, основанные на различных фотофизических и химических принципах формирования изображения /3,4/. Особое место среди них занимают органические светочувствительные материалы, как правило, дешевые и имеющие хорошие характеристики /5-8/.

В отличие от обычных фотографических материалов, фотохимические и химические процессы в которых основаны на фотолизе и проявлении микрокристаллов галоидного серебра, что позволяет получать коэффициент усиления первичного действия света до 10⁶ - 10¹⁰ поглощенный квант света в результате проявления образует до 10⁶ - 10¹⁰ атомов серебра), необычные светочувствительные материалы чаще всего имеют молекулярную структуру и это ограничивает их чувствительность /9/. Так, фотохромные материалы имеют квантовый выход не более 1 и Чувствительность ~ 50 мдж/см² - 10 дж/см² /10/. Однако они обладают очень высокой информационной емкостью из-за высокой разрешающей способности и практически полного отсутствия шумов /10/. Вместе с тем существует ряд органических материалов типа фотополимеров и свободнорадикальных, позволяющих получать эффективный квантовый выход до 10³ - 10⁴ и более /9/ при высокой информационной емкости.

Светочувствительные полимеры, называемые фоторезистами (ФР) , представляют значительный интерес для голографии, поскольку они просты в обращении и формируют рельефно-фазовые голограммы, при-

годные для получения с них копий простым методом тиснения. Основное их свойство - существенное изменение физико-химических характеристик под воздействием актиничного излучения - объясняется фотохимическими реакциями между компонентами состава, в результате которых происходит в одних случаях сшивание молекул вещества в полимерные структуры, в других - разрушение молекулярных связей. В результате растворимость пленки такого вещества в проявителях специального состава изменяется таким образом, что в облученных местах пленка переходит для одних веществ из нерастворимого состояния в растворимое или наоборот для других веществ /13,15,16/.

В первом случае светочувствительный материал принято назвать позитивным ФР, во втором - негативным. Позитивные ФР чаще всего синтезируются на основе нафтохинондиазидов, а проявление ведется в щелочных растворителях. В негативных ФР в качестве основной компоненты применяется поливинилциннамат (ПВЦ), который получают этерификацией поливинилового спирта (ПВС). Необлученный ПВЦ хорошо растворяется в органических растворителях: смеси толуола с хлорбензолом, ацетона метиленгликоля с метаксилолом и др. При облучении актиничным излучением пленка ПВЦ переходит в нерастворимое состояние вследствие образования трехмерной структуры молекул.

Для повышения адгезии ФР к подложке необходима ее тщательная очистка, особенно удаление следов Н₂О и ОН радикалов, которые могут привести к расслаиванию и растрескиванию слоя при проявлений либо ионно-лучевом травлении /21,22,111/, Подложка очищается нейтральным растворителем, споласкивается деионизованной h₂o и последующей сушкой в изопропиловом спирте и прогревом в течение 3 часов при

300°c /21/. Прогрев проявленного слоя ФР также увеличивает адгезию и устойчивость к химическим травителям, но при длительном прогреве недодается ухудшение разрешающей способности слоя.

Для регистрации голограмм используются негативные ФР типа resifaxa, Коdak photo resist (kpr-2), kodak thin film resist (ktfr), kodak orto resist (kor), rca №1 и др., причем чувствительность последнего возрастает при экспонировании в атмосфере n₂ /20/. Среди позитивных ФР применимы shipleyaz-111 и shipley az-1350 . Наибольшее применение среди ФР нашел ФР типа shipley az - 1350 , т.к. он более прост в работе и имеет наименьшее рассеяние. В исходном состоянии светочувствительный слой имеет слабожелтую окраску и спектральную чувствительность в области 340-490 нм. Показатель преломления ФР в области светочувствительности равен 1,66 - 1,7 /23/ и на λ= 365, 436 и 633 нм он равен 1,7, 1,66 и 1,626, соответственно /24-26/, причем в результате фотохимической реакции он изменяется на 0,01 непосредственно под воздействием излучения.

Максимальная величина дифракционной эффективности η_max голограмм, записанных на слоях ФР, превышает 30% при работе на просвет и достигает ~73% в металлизированных голограммах /27/. Энергия, необходимая для получения η_max = 21-24% при записи излучением с λ= 488 нм, равна ~2,5 - 3,0 дж/см² /17/.

На рис.1 представлена зависимость "'' (кр.1) для синусоидальных решеток, полученных с помощью he-cd ОКГ (λ=441, 6 нм) и проявленных в стандартном проявителе Аz - 1350 (смесь силиката и фосфата натрия), рекомендованном разработчиками для целей микроэлектроники /18/. Видно, что данная зависимость существенно нелинейна. Установлено, что это обусловлено не нелинейностями тонких фазовых голограмм /28/, а нелинейной зависимостью глубины вымытого рельефа при проявлении Δd от энергии экспозиции Е /17,29/ (см.рис.2, кр.1)

Эмпирическая формула, связывающая Δd и Е, представляет /23/:

Δd = t_пр[r₁ – Δr eхр(-сЕ)],

где t_пр - время проявления; r₁ - скорость растворения неэкспонированного ФР; Δr - разность скоростей растворения экспонированного и неэкспонированного ФР; С - константа.

Рис.1. Зависимость фоторезиста shipley az-1350 oт энергии экспозиции Е излучением Не-Сd ОkГ (λ = 441,6 нм) при проявлении в проявителе:

1 - Аz - 303 (разбавлен 1:4), t_пр = 20 сек;

2 - тот же, но t_пр = 33 сек;

3 - az - 1350 (неразбавлен), t_пр = 190 сек /18/.

Физические причины нелинейной связи между Δd и Е объясняются фотохимическими процессами, протекающими при облучении ФР актиничным излучением /30/, конечной величиной квантового выхода деструкции полимера (φ = 0,032 на λ = 365,4 нм для az – 1350 /31/), неравномерным распределением поглощенной энергии по толщине слоя и процессами его проявления.

Нелинейность отклика ФР дает возможность увеличения голографической чувствительности az-1350 к излучению с λ=457,9 нм с 0,3 до 0,1 дж/см² без существенного уменьшения η /20/ путем предварительного либо post экспонирования немонохроматическим излучением /22,32/. Это же уменьшает и нелинейность отклика пленки

Рис.2. Зависимость изменения толщины Δd фоторезиста (d = 1 мкм) от энергии экспозиции Е излучением Не-cd ОКГ (λ= 441,6 нм) при проявлении в проявителе:

1 - az - 303 (разбавлен 1:4),

2 - az - 1350 (неразбавлен) /23/.

Кроме нелинейных эффектов, проявление голограмм в стандартном проявителе Аz - 1350 ведет к появлению значительных шумов в восстановленном изображении, обусловленных рассеянием света на микродефектах поверхности слоя, получаемых при проявления. Лучшие результаты получаются при выборе соответствующих условий экспонирования и проявления /23/, особенно при использовании более активного проявителя типа az -303 (более высокощелочной проявитель с буферным раствором гидрата окиси натрия), разбавленного в отношении 1:4 в дистиллированной Н₂О для замедления и возможности контроля режима проявления /33/. Установлено, что данный проявитель при равном соотношении сигнал/шум приводит к уменьшению нелинейностей, повы-

шению η_max, (с 0,5% до 3%) и чувствительности s (с 60 мдж/см² до 10 мдж/см²) /33/. Это видно на рис.2, кр.2.

Существенное улучшение голографических характеристик ФР при использовании az -303 обусловлено его более высокой растворяющей способностью /17/. При увеличении температуры проявляющего раствора с 20°С до 25°С чувствительность ФР возрастет почти в 2 раза /17/.

Улучшение линейности характеристической кривой "Δd-Е" приводит и к расширению линейной области на кривой "-Е", как это видно на рис.1, кр.2,3 для двух времен проявления. Однако экспериментально установлено, что проявление а разбавленном (1 : 4) проявителе az -303 имеет относительно низкую воспроизводимость характеристик и дает некоторые шумы в восстановленном изображении. Эти недостатки устраняются при разбавлении проявителя в отношении 1 : 6 /37,38/.

Спектральная чувствительность различных типов ФР и ее связь с фотохимическими процессами, происходящими при их экспонировании, теоретически и экспериментально исследовались в /34-36/, а методика ее измерения в некогерентном свете с помощью спектросенситометрической аппаратуры, применяемой при испытании диазотипных материалов, описана в /36/. Кривая спектральной чувствительности ФР Аz - 1350 j, определенная как тангенс угла наклона характеристической кривой "Δd - e", представлена на рис.3 /35/. Измерения производились с помощью ионных аргонового и криптонового ОКГ с λ в области 457,9 и 488 нм. Измеренная величина чувствительности на этих λ равна 7,66∙10^-3 мкм∙см²/мдж и 0,5∙10^-3 мкм∙см²/мдж, соответственно, причем, первая близка к величине ~ 10,0∙10^-3 мкм∙см²/мдж, измеренной на λ= 441,6 нм в /23/.

Чувствительность az-1350 уменьшается в 2 раза за первые 20-30 часов после приготовления слоя и остается далее постоянной длительное время. Прогрев слоя приготовления ускоряет этот процесс /20/.

Центрами светочувствительности ФР слоев являются молекулы, концентрация которых az-1350 может быть ~ 1,6∙10¹⁶ см^-2 при толщине слоя 0,6 мкм /31/. Поэтому они являются практически беззернистыми и их разрешающая способность превышает несколько тысяч мм. Функция передачи модуляции az-1350, представленная на рис.4 /23/, показывает, что она не имеет завала до пространственных

частот ω > 1500 мм^-1, причем практически не зависит от толщины слоя до d ~ 2 мкм /23/. Там же приведены ФПМ позитивного ФР Аz – 111 /42/ и термически проявляемого ФР типа horisons research lhs7 /43/, описанного ниже. ФПМ негативного ФР типа kor не имеет завала до ω~150 мм^-1 и ограничивается эффектами поверхностного натяжения.

Рис.3. Кривая спектральной чувствительности фоторезиста az-1350 /38/.

Высокая разрешающая способность некоторых ФР типа az -1350, Аz -111 и в малой степени негативного ФР типа ktfr позволяет осуществлять регистрацию интерференционной картины стоячих световых волн при их экспонировании излучением ртутной лампы высокого давления /24/ и голографировании во встречных пучках /27/. Образование стоячих волн при отражении света от высокоотражающих подложек типа sio₂ необходимо учитывать при изготовлении дифракционных

решеток, тонкопленочных волноводов, ОКГ с распределенной обратной связью, поскольку это может привести к расслаиванию ФР при проявлении /40/. Исследование стоячих волн в ФР проведено в /41/.

3 -horisons research lhs7 (термическое проявление),

4 - тот же (химическое проявление) /43/.

Электронномикроскопические исследования голограмм, записанных с помощью излучения с λ = 351,1 нм на негативном ФР на основе ПВЦ (kor) с периодом ~ 1 мкм показали, что данный ФР имеет большие шумы при восстановлении, обусловленные рассеянием света на достаточно большом количестве полимерных молекул размером более 10⁴ Å, ïрисутствующих в слое /46/. Однако эти шумы могут быть практически полностью исключены в позитивных ФР при соответствующем выборе толщины слоя /47/ и режимов проявления /33/. Наилучшие результаты для ФР типа az -1350 j получаются при проявлении в разбавленном в Н₂О проявителе az -303А (1 : 6) /37,38/. Основным источником шумов в данном случае является интермодуляционный шум, обусловленный нелинейностями. При удовлетворительном уровне нелинейных искажений на ФР Аz -1350 можно получить изображения с

η = 5% οри s/n = 25 дб и чувствительностью ~ 5-20 мдж/см² к λ = 441,6 нм /23/. Экспериментально установлено, что негативный ФР типа kor обладает большим динамическим диапазоном, позволяющим регистрировать пространственные изменения интенсивности излучения при разности в плотности излучения в ~1,4∙10⁶ раз /45/.

Из существующих отечественных ФР наибольший интерес в настоящее время представляет позитивный ФР типа ФП-385, близкий по своим голографическим характеристикам к ФР az -1350. Максимальная величина η_max в случае записи простых дифракционных решеток превышает 36% при энергии экспозиции на λ = 441,6 нм (he-cd ОКГ типа ЛГ-31) ~ 50 мдж/см². Разрешающая способность превышает 3000 мм^-1, причем проявление ФР в проявителе с несколько отличным от стандартного составом дает возможность восстанавливать изображения практически без шумов, обусловленных рассеянием света. Измеренная величина s/n изображений, восстановленных с голограмм на ФР ФП-383, превышает при этом 20 дб при η = 7% и увеличивается с уменьшением η, ограничиваясь только нелинейными эффектами. На рис.5 представлена фотография изображения, восстановленного с голограммы, записанной на ФП-383.

крилат (ПММА) /48/, ацетобутиратцеллюлоза, сенсибилизированные слои поливинилиденхлорида, сополимер ММА с акролеином и метилакрилатом /49/, ПВС /50/ и др. В зависимости от способа приготовления слоя процесс записи может осуществляться за счет фотодеструкции полимера /49/ или фотоиндуцированной полимеризации остаточного мономера /51/ при его окислении перед полимеризацией /48,52/.

Используя he-cd ОКГ (λ = 325 νм), в слое ПММА толщиной 2 мм получены голографические дифракционные решетки (ГДР) с ω до 5000 мм^-1 и η > 96% /52/. Οри этом Δη~2,3∙10^-3. Сенсибилизация ПММА р-бензохиноном позволяет получать ГДР с η_max > 70% с помощью излучения аргонового ОКГ (λ = 488 нм) пои толщине слоя ~ 0,1-0,9 мм и энергии записи ~ 2,4 дж/см² /49/ Отклонение от закона взаимозаместимости не наблюдается в области 0,4 - 40 мвт/см² /49/. Фиксация голограмм производится УФ излучением. Характерной особенностью формирования высокоэффективных голограмм ПММА и ряда других материалов является наличие концентрического рассеянного излучения при восстановлении /48,52,112/, что объясняется интерференционными эффектами рассеянного излучения при записи голограммы.

ФР и светочувствительные полимеры пригодны для регистрации не только УФ и коротковолнового видимого излучения. В /53/ получены голограммы с периодом /\ < 836 Å в вакуумном УФ с λ= 1182 Å (9-я гармоника ( nd:yag ОКГ с λ= 1064 нм) в слое ПММА толщиной 1400 Å, полученного методом центрифугирования. Энергия экспозиции была ~0,1 дж/см². Глубина проникновения излучения в слой < 600 Å /54/. Проявляющим раствором является метилизобутилкетон.

Созданы ФР, чувствительные к мягкому рентгеновскому излучению, позволявшие формировать в них оптические элементы с /\~0,1 мкм и менее /55,56/. ФР на основе акрилатных мономеров имеют чувствительность к λ = 0,86 нм ~ 10 мдж/см² (ФР типа kМnr имеет 72 мдж/см², а ПММА 500 мдж/см²) /55/.

ФР пригодны для получения синтезированных голограмм с помощью сканирующего электронного микроскопа, управляемого от /57/, причем при ускоряющем направлении 30 кВ полимер "lucite" имеет более высокое разрешение по сравнению с ПММА из-за низкого об-

ратного рассеяния электронов /58/. Свойства и условия проявления ПММА после экспонирования электронным пучком описаны в /59/. Обычно позитивные ФР менее чувствительны к электронным пучкам по сравнению с негативными и чувствительность (s) az - 1350 к электронам с энергией 15 кэВ составляет ~6 мккул/см² сразу после приготовления слоя и ~40 мккул/см² через 4 месяца хранения /31/. При изменении ускоряющего напряжения в пределах 5-20 кВ s изменяется от 3 до 9 мккул/см² /31/. Глубина проникновения электронов с энергией 15 кэВ в слой ФР А -1350 равна 8500±200 Å /31/.

В /61,62/ предложен новый способ получения голограмм и оптических волноводов с малыми потерями (< 0,2 дб/см на λ= 633 нм), основанный на селективном увеличении показателя преломления тонкой полимерной пленки с примесью относительно летучих органических соединений с более высоким показателем преломления n. При экспонировании примесь или полимер вступают в фотохимическую реакцию присоединения примесных молекул к полимеру, димеризации примеси и т.д., в резулътате чего уменьшается подвижность примесных молекул и их летучесть. Формирование фазовых изображений в виде изменения толщины и Δn осуществляется прогревом слоя. Наблюдаемая величина Δn составляет ~ 1% /61/. ФР, основанный на фотоиндуцированной полимеризации и улетучивании галоидпроизводного при термической обработке, в результате чего происходит одновременно и фиксация, описан в /43/. Область спектральной чувствительности данного ФР смещена к λ = 488 нм и равна ~ 5 мдж/см² (η_max = 30%). На рис.4 представлена его ФПМ при сухом термическом и мокром (химическом) способе проявления. Материал позволяет получать голограммы сложных объектов с s/n 2,5 дб и η = 2,2% при отношении пучков К=20 на ω = 500 мм^-1 /43/.

ФР используется при регистрации изображений на несущей пространственной частоте /98/, в различных устройствах памяти, например, при изготовлении видеомагнитных дисков с построчной записью /99/ рельефно-фазовых голографических дисков для архивной памяти /100/, а также в устройствах микрофильмирования с использованием голограмм сфокусированных изображений, что позволяет существенно уменьшить стоимость микрофильма при необходимости большого числа копий /101/. В /23/ получены микроголограммы (диаметр несколько мм) на ФР с

отношением s/n 25 дб, η 3-5% и s несколько мдж/см².

Слои ФР az -1350 на гибкой основе "Кронар" /103/ используются для систем кассетного телевидения Ноlo Таре, описанной в /102,103/. Данный ФР устойчив к растворам при электролизе и электролитической металлизации, что имеет большое значение при получении металлических копий. Метод основан на формировании исходного голографического кинофильма с обычного с последующим получением металлического оригинала рельефно-фазовой голограммы (nl матрица) /104/ и тиснении этого оригинала на прозрачную виниловую, полиэфирную или ацетатную пленку /18,105/. ni матрица изготавливается методом гальванопластики, подобно получению обычных граммпластинок /106/. Достоинство метода - низкая стоимость копии и практическая нечувствительность к дефектам пленки /107/.

При контактном копировании голограмм, записанных на обычных фотографических материалах использовались ФР az -1350 /108/, kpr -2 /44/ и ртутная лампа. Полученные копии имели высокое качество и η~6,4% по сравнению с 0,4% у оригинала. В качестве материала для реплик с этих голограмм можно использовать любую термопластическую смолу типа поливинилхлорид и ПММА /17/.

Большие перспективы применения ФР для получения оптических элементов, в частности, дифракционных решеток голографическим методом /63,64,109/. ГДР являются диспергирующими элементами и могут обладать фокусирующими свойствами, что представляет интерес в спектроскопии /19/. Получены отражательные ГДР размером 110´ 150 мм² с ω до 3000 мм^-1 и η~68% на λ=546 нм (2000 мм^-1) и 50% на λ= 633 нм (3000 мм^-1) /19/. Алюминированные ГДР, полученные во встречных пучках, способны концентрировать световую энергию в +1-й дифракционный порядок до 73%, тогда как в -1-й порядок идет всего 1%, а в 0-й - 26% /27/. Определение оптимального профиля рельефно-фазовых ГДР проведено в /65,110/, а в /66/ при этом учитывалась геометрия схемы записи голограммы. Теоретическое исследование влияния нелинейного отклика ФР на форму профиля штрихов решетки при получении голографических концентрирующих ДР в 1-й порядок проведено в /67/. В работе /68/ теоретически исследовались аномальные эффекты в металлизированных ГДР, обуслов-

ленные их конечной проводимостью, а сравнение с экспериментом на слоях Аl, Аu, Аg проведено в /60/.

Сравнительный анализ нарезных и голографических ДР показал существенные преимущества последних /26/ причем экспериментально установлено, что в области 120 - 200 нм они имеют более равномерное распределение n и других характеристик по поверхности /69/.

Используя логарифмический негативный ФР типа resifax a специалисты фирмы jobin - yvon разработали метод промышленного производства ГДР с ω до 3600 мм^-1 и размером 16,5´ 32 см /70/, которые используются в высокоразрешающих монохроматорах /71/. Металлизированные ГДР на ФР, полученные с помощью Аr ОКГ (λ = 457,9 нм), с успехом могут использоваться при дифракции мягких рентгеновских лучей (λ = 4,4 нм) /72,73/, а светосильные зонные пластины Френеля применимы в качестве отображающих систем /75/, в микроскопии и спектроскопии мягких рентгеновских лучей /74/.

Высокая разрешающая способность ФР az - 1350 позволяет использовать его для получения голографическим способом периодических структур ~ 0,1 мкм, представляющих большой интерес в устройствах интегральной оптики /76/. На слое ФР толщиной 1500 Å получены решетки с /\ = 1108 Å с помощью he-gd ОКГ (λ =325 нм) по методу согласующей призмы с применением ксилола в качестве иммерсирующей жидкости /76/.

ФР используется для формирования микролинз в качестве согласующего элемента инжекционных ОКГ с оптическими волокнами /96/, тонкопленочных решетчатых фильтров /95/ с коэффициентом отражения более 75% и шириной полосы менее 2Å /85,95/, в интегральной оптике /81,86/ при изготовлении тонкопленочных gа as ОКГ с распределенной обратной связью с оптической /47/ и электрической /87/ накачкой, причем периодические структуры с /\ = 0,11 мкм и /\= 0,35 мкм формировались в ФР Аz -1350 с помощью he-gd (λ=325 нм) и ar (λ= 488 нм) ОКГ, соответственно. Дифракционные решетки на ФР используются как маски для последующего переноса записанной интерференционной картины на подложку (слои ga as, sio₂, стекло и др.) методом ионно-лучевого или высокочастотного распыления /83,90,91,97,92/ и химического травления /72,88/ ФР с успехом используется для возбуждения поверхностных волн в

стеклянных пленках толщиной ~0,76 мкм с помощью дифракционных решеток периодом ~0,665 мкм с эффективностью ~ 40% /84/. В работах /25,84/ в качестве волноводной пленки использовался сам ФР, причем эффективность дифракционного ввода достигала 50% /84/. Синусоидально гофрированные Аg пленки с /\ =8060 Å, ïолученные с помощью ФР, использовались для возбуждения поверхностных волн вблизи плазменной частоты /23,94/.

Чувствительность и разрешающую способность позитивного ФР можно повысить, используя метод одновременного экспонирования и проявления /79/. При этом оптимальная толщина ФР Аz – 1350 j составляет ~0,25 мкм для записи решеток с /\ =0,24-0,8 мкм. При меньшей толщине слоя пленка имеет плохую адгезию и позволяет получать ГДР с низкой эффективностью, при большей толщине требуются большие времена экспозиции /21/.

Наряду с голографическим способом формирования элементов интегральной оптики применяется и обычный фотолитографический способ /58,82/. Большие перспективы имеет и способ с применением сканирующего электронного микроскопа, с использованием ФР az-1350b /89/, ПММА /78/, полифенилсилоксана /77/. Механические способы массового копирования субмикронных элементов интегральной оптики путём литья и тиснения описаны в /80,93/.

В отличие от фоторезистов фотополимеризующиеся слои не требуют проявления для визуализации записанной информации и поэтому допускают работу практически в реальном масштабе времени.

большим молекулярным весом. Свободные радикалы, являющиеся основным элементом образования фотополимера (ФП), формируются либо прямым разложением веществ, называемых инициаторами, в результате фотохимической реакции при поглощении кванта света, либо в результате сенсибилизированного действия определенного красителя /113/. Квантовый выход реакции фотополимеризации мономеров, определяемый как отношение числа поглощенных квантов к числу прореагировавших молекул мономера, достигает величины 10⁶ и более, что обуславливает достаточно высокую светочувствительность фотополимерных материалов.

В состав фотополимеризующихся слоев, кроме мономера, в общем случае входят фотоинициирующая система (краситель или фотоокислитель и катализатор), фиксирующее вещество, растворитель и наполнитель. Фотополимеризующиеся слои могут быть в виде жидкости между стекол или твердых пленок, причем, первая композиция, имеющая чувствительность ~5 мдж/см² к λ= 632,8 нм, уже поступила на рынок /138/.

Жидкие ФП системы, получившие наибольшее распространение, разработаны фирмой hughes aircraft (США) /123,130/ и представляют собой композиции на основе различных солей металлов акриловой кислоты (Ва, Рb, sr, Са и др.) /116/, а также их смеси с акриламидом и Р-метиленбисакриламидом.

Молекула метиленового голубого, поглощающая квант света при экспонировании, имеет большую вероятность внутримолекулярной конверсии с возбужденного синглетного (s*) на триплетный (Т*) уро-

Экспериментально установлено, что чувствительность акрилатов металлов приблизительно на порядок выше чувствительности акриламидов (до 0,6 мдж/см² на λ= 652,8 нм), но они достаточно дороги в производстве и имеют сильные шумы из-за рассеяния света /120,121/. Так, акрилат Ва дает при фотополимеризапии непрозрачный осадок /116/.Смесь акрилатов металлов и акриламида дает удовлетворительную чувствительность и малые шумы /120/.

Регистрация голограмм на ФП слоях акрилатных мономеров, сенсибилизированных МГ к излучению Не-ne (λ = 632,8 νм) и рубинового (λ~694 нм) ОКГ описана в /114,121,125,127,182/ с эффективностью до 45% /114/. В патенте /132/ описана композиция, позволяющая формировать голограммы с разрешением до 3000 мм и чувствительностью (s) ~ 1-30 мдж/см² к излучению с λ=632,8 нм при η_max = 6% (толщина слоя 10-20 мкм). При толщине слоя до 700 мкм можно получить η_max до 80% /133/.

При записи голограмм на данных ФП композициях существует индукционный период, в течение которого η~0. Он обусловлен наличием примесных веществ, в слое, имеющих более высокое химическое сродство с Сp по сравнению с молекулами мономера и ингибирующих процесс полимеризации до их полного израсходования при облучении актиничным излучением /126/. Его можно уменьшить (повысить чувствительность) предварительным облучением слоя некогерентным светом /120,132/.

полимерной пленки 1,510 /120/. Величина изменения показателя преломления (Δn) определяется составом композиции и в некоторой степени зависит от плотности экспонирующего излучения. Увеличение плотности излучения на порядок приводит к возрастанию величины Δn на ~2∙10^-3 /120/. Предполагаемое объяснение этого эффекта заключается в получении более высокой концентрации СР при облучении ФП слоя мощным излучением, что может привести к обрыву полимерных цепочек /126/ и образованию полимерных молекул с меньшим молекулярным весом. Это приводит к повышению плотности вещества и, следовательно, увеличению n.

Рис.6. Отклонение от закона взаимозаместимости фото-полимерной системы, представленное в виде зависимости энергии экспозиции Е (мдж/см²) от плотности излучения Р (мвт/см²) /121/.

лее 0,2 мВт/см² (λ = 632,8 νм) наблюдается зависимость i∙t^Р=const, где С - const, зависящая от чувствительности системы, а Р = 3 /121/. В области сохранения закона взаимоза-

местимости s=5 мдж/см².

Экспериментальные исследования нелинейностей ФП слоев, проведенные в /125/, при записи простых ГДР и голограмм диффузных объектов показали, что они близки к нелинейностям обычных фазовых материалов.

Хотя данные композиции позволяют регистрировать голограммы до ω ~3000 мм, при ω > 1500 мм^-1 отношение "сигнал/шум" (s/n) в восстановленном изображении становится малым, что, видимо, обусловлено размерами макромолекул /121/ и поверхностными неоднородностями /115/.

ФП композиции не требуют какой-либо обработки для визуализации голограмм, записанных на них, и в течение некоторого времени позволяют осуществлять считывание без разрушения информации, используя зависимость длительности индукционного периода от λ /122/.

Для полностью неразрушающего считывания производится оптическая или термическая фиксация /129,115,131,182/. Оптическая фиксация /127,129,148,149/ осуществляется в течение 10^-4 сек с помощью УФ излучения в результате фотолиза специальных добавок типа нитросоединений (например, соли n - нитрофенилуксусной кислоты), декарбоксилирующихся с образованием аци-аниона /121,148,149/, который восстанавливает краситель до бесцветной лейкоформы и десенсибилизирует систему /116/. Энергия УФ фиксаций составляет ~200 мдж/см²/117/. Недостатком этого метода является окисление лейкоформы красителя до окрашенной формы через несколько часов, приводящее к восстановлению светочувствительности. Введение фиксирующих веществ также приводит к уменьшению чувствительности вдвое /127/.

Термическая фиксация более стабильна, но продолжается несколько минут. В /127/ разработан способ, позволяющий сократить время фиксации до ~10 сек путем обдува ФП слоя горячим воздухом.

Существенным недостатком жидкой ФП композиции является быстрое ухудшение чувствительности, что обусловлено формированием сульфонов (r₂so₂) в присутствии воды даже в темноте /132,136/. Для устранения этого недостатка были предложены "сухие" ФП пленки /118/, представляющие собой твердый слой катализатора в связующем (желатине) толщиной несколько мкм, расположенный между двумя стеклами

В работе /183/ было проведено исследование влияния рН и температуры на процесс, происходящий при темновом хранении фотополимеризующегося водного раствора акрилата Ва, а в /185/ исследовался механизм фотополимеризации акриловых мономеров и изучались темновые реакции присоединения ионов бензолсульфиновой кислоты к акриловым мономерам, ограничивающие время жизни ФП растворов. В результате были созданы твердые желатиновые пленки, имеющие повышенное время сохранения светочувствительности, но очень чувствительные к влажности.

Экспериментально установлено, что смесь акриламида и n,n', -метиленбисакриламида с фотоинициирующей системой, состоящей из фенотиазинового красителя типа МГ (окислитель) и ацетилацатона или триатаноламина (ТЭА) как фотовосстановителя, имеет повышенное время жизни, причем, наилучшие результаты получаются при использовании ТЭА /128/. Максимальная достигаемая дифракционная эффективность голограмм, записанных на жидких слоях толщиной ~50 мкм, заключенных между стеклами 7´ 7 см, составляет ~65% при энергии экспозиции ~40 мдж/см² на λ= 632,8 нм.

Рис.7. Зависимость дифракционной эффективности голограмм, записанных на фотополимере фирмы hughes от времени его хранения; концентрация ТЭА - 0,5 мол/л; концентрация МГ - 1,25∙10^-4 мол/л; энергия экспозиции - 20мдж-см² (λ= 632,8 νм) /128/.

Специалисты фирмы du pont (США) разработали твердые ФП слои толщиной 1,25 - 200 мкм, наносимые на стеклянные или лавсановые подложки /146,147/ и состоящие из фотополимеризующегося мономера акрилатного типа, инициатора полимеризации и целлюлозной основы /142/. Полная информация о композиции приведена в /119-135/. Неэкспонированный ФП мягок, но не течет и сохраняет светочувствительность в течение 6-8 месяцев при хранении в закрытой контейнере при температуре 5-10°С в вертикальном положении. Последнее препятствует оседанию пыли, частицы которой являются центрами полимеризации. Иногда для предохранения от загрязнения, окисления и механических повреждений ФП слой покрывается тонкой защитной пленкой /141/. После экспонирования и фиксирования ФП становится твердым и гибким и записанная на нем информация хранится более года без каких-либо изменений /142/. Голограммы, полученные на данных ФП, обладают достаточной стабильностью и не ухудшают своих характеристик при хранении в условиях сильной влажности в течение длительного времени. Прогрев их при 100ºС в течение 24 часов изменяет η с 90% до 85%, но при 170°С η падает на 50% за 5 мин /146/.

Область спектральной чувствительности находится в пределах 320 - 550 нм /124,142,147/, причем, на λ = 360 нм и 490 нм она равна 0,5 - 10 мдж/см² соответственно. Как и жидкие ФП слои твердые ФП пленки имеют индукционный период, поэтому чувствительность возрастает почти на порядок при использовании предварительного экспонирования /124,147/. Время инициирующего экспонирования колеблется от долей сек до минут /142/. На λ = 514 нм чувствительность равна 10 - 40 мдж/см² при экспонировании на воздухе и 4 мдж/см² при экспонировании в атмосфере азота или в условиях, свободных от доступа кислорода /146/.

Механизм формирования голограмм на данных ФП достаточно сложен /124,141,146/ и включает полимеризацию и диффузию мономера. Детальное исследование процесса образования ГДР, обусловленного миграцией мономера в экспонированные области, описан в /146/, где изучено влияние времени экспонирования и мощности излучения, а

также режимов post экспонирования и концентрации катализатора. При записи голограмм наиболее сильно экспонированные участки ФП слоя полимеризуются с большей скоростью, в результате чего под влиянием образовавшегося пространственного градиента концентрации оставшегося мономера последний стремится диффундировать в более темные участки слоя. В случае не сильно экспонированных пленок время, необходимое для полной диффузии, приводящей к выравниванию концентрации по пленке, составляет ~2 - 3 мин /142/. Последующее облучение ФП пленки равномерным некогерентным излучением той же длины волны (или просто опорным пучком) приводит к окончательной полимеризации поставшегося мономера и образованию пленки с неравномерным распределением образовавшегося полимера. Величина Δn достигает при этом ~10^-2 (1,494 до полимеризации и 1,510 после) /146/. Таким образом, данные ФП не требуют специальной стадии фиксации и ее можно осуществить в процессе считывания в течение 3-4 мин при плотности излучения ~ 4 мвт/см². Величина η δостигает значения 85-90% (с учетом отражения и поглощения). Голограммы могут быть сделаны полностью фазовыми во всем видимом диапазоне длин волн путем отбеливания красителя, но этот процесс требует больших энергий /146/.

Кинетика изменения η в процессе записи голограмм на ФП фирмы du pont зависит от плотности экспонирующего излучения. При большой плотности, когда скорость полимеризации превышает скорость диффузии, η сначала возрастает, но после окончания записи она падает до нуля в результате происходящих диффузионных процессов, а затем снова начинает возрастать до значения, близкого к исходному. При фиксация (считывании), когда происходит полимеризация остаточного мономера, η резко возрастает и может значительно превышать η, получающуюся при записи (рис.8) /124/. При небольшой плотности (~2 мвт/см² на воздухе) η возрастает постепенно до максимального значения, т.к. скорости полимеризации и диффузии соизмеримы и процессы идут одновременно.

Сохранение закона взаимозаместимости для данных пленок наблюдается в области 0,5-100 мвт/см² при экспонировании на воздухе и 0,006-100 мвт/см² в инертной атмосфере /146/.

Максимальная величина η не зависит от температурных условий в пределах 15-60°С /146/. Нелинейные искажения ФП проявляются при η~1-2% /124/.

На ФП слоях толщиной ~700 мкм получены голограммы многоцветных объектов с помощью излучения аргонового ОКГ /134/.

Экспериментальные исследования, проведенные с использованием излучения с λ = 364 нм, показали, что при частотах и ω<100 мм^-1 голограммы являются рельефно-фазовыми, а при ω > 100 мм^-1 основной вклад в η дает изменение показателя преломления, причем, максимум функции передачи модуляции (ФПМ) в этом случае имеет место на ω ~ 1000 мм^-1 и при ω > 1900 мм^-1 она падает на 50% /124/. Завал ФПМ (в случае записи голограмм за счет изменения Δn) на

ω < 100 μм^-1 обусловлен конечной скоростью диффузии мономера, а на ω > 1500 мм^-1 - длиной полимерной цепи, приводящей к рассеянию света, и сильным поглощением, уменьшающим эффективную толщину слоя /1/. При использовании для записи голограмм более длинноволнового излучения с λ= 514 мм спад ФПМ на 50% наступает при ω~3000 мм^-1, но запись идет и при 3880 мм^-1.

По данным фирмы du pont ФП пленки имеют в десять раз более низкие шумы по сравнению с фотопластинами kodak - 649f /124/.

Обратимая сенсибилизация ФП систем с помощью фотохромных соединений из класса спиропиранов описана в /139,149/. Фотохромные соединения, бесцветные в исходном состоянии, интенсивно окрашиваются под воздействием УФ излучения (λ < 400 нм). Фотохромные соединения (ФХС) имеют высокий коэффициент экстинкции в УФ области спектра и квантовый выход реакции фотоокрашивания, близкий к 1, поэтому реакция фотополимеризации под действием УФ излучения практически не идет. Однако окрашенная форма спиропирана является эффективным сенсибилизатором в видимой области, подобно обычным красителям, что позволяет использовать их для записи голограмм he-ne ОКГ (λ = 632,8 нм). После записи система может быть снова десенсибилизирована в результате термического обесцвечивания ФХ молекул. Это также приводит к образованию чисто фазовых объемных голограмм. Длинноволновая граница спектральной чувствительности данной системы превышает 650 нм и для получения η = 80% (Δn ~ 10^-2) требуется ~ 0,1 дж/см² (λ = 632,8 νм). ФПМ не имеет завала до частот ω > 3000 мм^-1. Основная проблема этих материалов в настоящее время - стабильность светочувствительности в процессе хранения материала (она теряется через 4-5 дней после приготовления пленки) /140/.

ния сенсибилизатора позволяет формировать на них голограммы с η до 98% при разрешении свыше 5000 мм^-1, причем спектральная чувствительность находится в области 400-700 нм. Энергия, необходимая для получения максимальной η (Δn ~ 10^-4 – 10^-3) – 0,1-10 дж/см² /151,152/.

Определенное применение могут найти фотополимеризующиеся эпоксидные слои с чувствительностью ~ 1,27 мдж/см² к излучению Аr ОКГ (λ = 351,1 нм и 363,8 нм). Экспериментально измеренное разрешение равно ~3750 мм^-1, но теоретически оно может достигать 10000 мм^-1, т.к. по оценке наибольший размер молекул для сшитого полимера равен ~ 600 Å. η_max достигает 7%, а область чувствительности лежит в 200-450 нм /150/.

Для записи голограмм можно использовать пленки ПММА /154/ и полимерные пленки, содержащие примесь светочувствительного мономера с показателем преломления, отличным от полимера /153/.

Несомненный интерес для голографии и оптической обработки информации представляют светочувствительные пленки со свободными радикалами, как несеребряные материалы, имеющие чувствительность до ~10 дж/см^-7 дж/см² (для получения Δd = 1,0), сравнимую с чувствительностью высокоразрешающих галогенидосеребряных эмульсий, с разрешением на молекулярном уровне, с сухим оптическим способом проявления и термическим способом фиксации записанной информации /14/.

Основными компонентами данных материалов являются лейкооснование катионного красителя, галоидное производное как источник свободных радикалов и полимерный носитель. Для повышения времени сохранения светочувствительности и обеспечения высокотемпературной стабильности при термической фиксации изображения (предотвращения появления "вуали") в композицию вводятся ингибиторы свободных радикалов (например, трифенилсурьма) и антиоксиданты (соединения из класса фенолов). Для сенсибилизации слоев к видимому излучению

вводятся красители /14,156/. Типичная композиция состоит из лейкооснования кристаллического фиолетового, четырехбромистого углерода, трифенилстильбена (ингибитор) и полистирола. Растворителями являются бензол или толуол. Толщина сухой пленки обычно составляет 5-15 мкм /14/.

Центрами светочувствительности слоев являются комплексы с переносом заряда (КПЗ), образующиеся между молекулами лейкооснования красителя и галоидным производным при приготовлении раствора. Фотолиз светочувствительного комплекса под действием излучения с длиной волны, лежащей в области поглощения КПЗ (обычно 550 нм), приводит к образованию небольшого количества молекул красителя, формирующих скрытое изображение и осуществляющих локальную оптическую сенсибилизацию слоя к длинноволновому излучению (λ≥600 нм). Скрытое изображение оптически усиливается при равномерном облучении пленки излучением, спектральный состав которого находится в полосе поглощения образовавшегося красителя. Коэффициент усиления при этом достигает величины 10² - 10³ и даже 10⁵ /14/. Формирование видимого изображения можно осуществлять и без оптического проявления непосредственно активирующим или проявляющим излучением (режим "прямого печатания"), однако чувствительность при этом будет ниже /155-161/.

Механизм формирования и оптического усиления скрытого изображения достаточно хорошо описывается с помощью схемы расположения энергетических уровней, представленной на рис.9 /149/. В процессе первоначального экспонирования пленки излучением, несущим информацию об объекте, при поглощении коротковолнового кванта света hν_u КПЗ происходит его возбуждение до синглетного состояния s'_u. Затем в результате безызлучательной конверсии энергии КПЗ переходит в метастабильное долгоживущее триплетное состояние Т'_u, откуда

При проявлении длинноволновым "красным" светом hν_n образовавшаяся на первой стадии молекула красителя поглощает квант света и возбуждается до синглетного уровня s'_n, откуда переходит в триплетное состояние t'_n. Далее энергия молекулы красителя в результате межмолекулярного Т-Т переноса энергии передается на Т'_u уровень комплекса. Конечным результатом этого процесса является снова диссоциация kПЗ и образование новой молекулы красителя, способной осуществлять дальнейшую локальную сенсибилизацию слоя. Таким образом, процесс формирования изображения на стадии оптического проявления носит лавинообразный характер и оптическая плотность экспоненциально возрастает со временем проявления.

В результате проведенных фирмой horizons res (США) исследований и разработок, созданы два типа пленок с оптическим проявлением /163,164/, чувствительных к излучению аргонового ОКГ (λ = 488 нм) на основе стириловых и винилиденовых красителей. Их чувствительность составляет 25 эрг/см² (для Δd = 1,0), но могут быть получены образцы с чувствительностью до 10 эрг/см². В прямопечатающем режиме чувствительность (s) пленок достигает 2 мдж/см² /163,164/ пленки на основе стириловых красителей имеют s~ 4∙10^-6 и 4∙10^-7 дж/см² (Δd = 1,0) при γ~3 и 4, соответственно /165/. Сенсибилизация пленок рубреном позволяет получить s~3∙10^-6 да/см² (Δd = 1,0) к излучению с λ= 441,6 нм /166/. В /167/ описана композиция, чувствительная к излучению аргонового ОКГ. Разработанный тип прямопечатающей пленки РН2000 имеет s~40-100 мдж/см² и γ = 1,4 /165/.

Область спектральной чувствительности винилиденовых пленок равномерна в пределах 400-500 нм и постепенно падает при λ>540 нм /163/. Стириловые пленки чувствительны до ~510 нм, а пленки на основе трифенилметановых красителей, например, с кристаллическим фиолетовым и cbr₄- в области 350-500 нм с λ_max~400 нм (рис.10 кр.1) /162/.

Спектр поглощения винилиденового красителя, получаемого в пленке при формировании изображения имеет максимум в области 620 и 820 нм, что допускает возможность использования для считывания как Не-ne, так и полупроводниковые ОКГ. Спектр поглощения красителей имеет максимум в области ~580 нм. На рис. 10, кр.2, представлен спектр поглощения пленки на основе кристаллического фиолетового и СВr после оптического проявления. Следует отметить, что после фиксации неэкспонированные участки пленки становятся

Рис.10. Спектральная чувствительность свободнорадикальной пленки на основе лейкооснования кристаллического фиолетового /162/ (кр.1) и ее спектр поглощения после оптического проявления и термического фиксирования при 140°С в течение 7 мин (кр.2).

Режим оптического проявления (спектральный состав проявляющего излучения и его плотность, время и температура проявления) существенно влияет на характеристики материала (d_mаx, скорость проявления, γ, величина "вуали" и т.д.).

тающих проявляющее излучение и сенсибилизирующих образование красителя в неэкспонированных местах, а такие молекулы красителя, формируемые в результате протекания термических реакций (рис.9) в процессе хранения /168/. Некоторое влияние может оказать и расширение длинноволновой границы спектра поглощения КПЗ в область оптического проявления /14/.

Чем дальше может быть сдвинута коротковолновая граница проявляющего излучения в ИК область спектра, тем меньший уровень вуали получается при проявлении /164/. В /169/ описаны материалы, проявляемые ИК излучением в области 700-750 нм с чувствительностью ~65 мдж/см² (Δd= 1,0), а в /158/ - стирилхинолиновые слои, имеющие область проявления ~0,75-3 мкм. Энергия проявления составляет несколько дж/см².

Скорость проявления зависит от температуры и ее изменение на 1°c может привести к изменению скорости проявления на 18%, тогда как изменение энергии проявления на 1% приводит, соответственно, к изменению скорости на 2-3% /162/. Для винилиденовых пленок возрастание температуры на 10°С изменяет скорость проявления в 2,5 раза /169/. Время проявления свободнорадикальннх пленок на основе лейкооснования кристаллического фиолетового уменьшается с 50 сек при 50°С до 9 сек при 140°c /162/.

Температурная зависимость времени оптического проявления сложна. Если температура проявления ниже температуры стеклования полимера, процесс переноса энергии поглощенного кванта света с молекулы красителя на КПЗ определяется внутренними процессами, при обратном отношении большое значение играет скорость диффузии активных частиц в пленке /14/. Нагрев пленки при оптической проявлении до 130°С дает возможность проводить одновременно проявление и фиксацию /168/.

Коэффициент контрастности γ свободнорадикальных материалов зависит от температуры режима проявления и при изменении температуры с 40°С до 80°С он изменяется с 1,9 до 0,9, причем время проявления сокращается с 17 сек до 2 сек /170/.

Режим оптического проявления обладает существенным отклонением от закона взаимозаместимости. Так, при четырехкратном изменении плотности проявляющего излучения с 120 мВт/см² до 30 мВт/см²

время проявления возрастает в 6-7 раз /170/. В то же время при использовании аргонового ОКГ не наблюдается заметного отклонения от данного закона в области времен экспонирования от 100 сек до 10^-8 /162/ и даже 10^-9 сек /171/.

Фиксация свободнорадикальных пленок на основе трифенилметановых красителей идет при 110-150°С путем удаления активатора (СВr₄) из слоя. При 140°c время фиксации равно 90 сек (при 120°С оно равно 180 сек). С увеличением температуры время фиксации сокращается, но при этом разрешающая способность может падать из-за диффузии красителя при более 170°С /162/. Метод устранения вуали при термической фиксации описан в /172/.

Термический способ фиксации изображений на свободнорадикальных пленках в ряде случаев неудобен из-за токсичности удаляемых при этом продуктов (СВr₄, Сcl₄). В связи с этим разрабатываются способы десенсибилизации слоя путем его обработки аммиаком /173/ и химический способ /174/ без удаления токсичных продуктов из слоя путем термической обработки /175,176 при 90-150°С /177/. Существует мокрый способ фиксации в растворе этилацетата и бензола (3 : 17) /158/ или петролейного эфира и ацетона (4 : 1) в течение 30 сек.

Свободнорадикальные материалы приблизительно на порядок более светостойки по отношению к выцветанию под действием света после фиксации по сравнению с диазопленками и в 4-6 раз более устойчивы к механическим повреждениям по сравнению с фотографическими слоями /171/.

Материалы чувствительны не только к УФ и видимому излучению, но и к электронным пучкам с энергией ~ 20 кэВ. При этом заряд в 10^-9 кул/см² обеспечивает оптическую плотность d = 1,5-2,2 при оптическом проявлении /168/. Чувствительность к рентгеновскому излучений соизмерима с чувствительностью обычных рентгеновских пленок для медицины. При хранении пленок в течение 3 месяцев при комнатной температуре их чувствительность падает в 2 раза /14,168/. Свободнорадикальные пленки чувствительны к прохождению электрического тока через них при наложении напряжения /168/, что позволяет, в принципе, создать материал, чувствительный практически к любой области спектра, совмещая его с соответствующим фотопровод-

никовым слоем /168/.

Голографические характеристики свободнорадикальных материалов изучались путем записи простых дифракционных решеток с помощью he-ne (ЛГ-38) и he-cd (ЛГ-31) ОКГ в режиме "прямой печати". Запись велась на пространственных частотах ~1400 и 1000 мм^-1. Дифракционная эффективность измерялась на λ= 632,8 нм.

На рис.11 представлена зависимость η от времени экспонирования t_э голограмм, записанных на λ = 632,8 нм при средней плотности излучения ~50 мВт/см². Характерной чертой является наличие "индукционного" периода, в течение которого η~0. Он

λ_зап= 632,8 нм; λ_счит= 632,8 нм;

<Р>= 50 мвт/см²; ω= 1000 μм^-1.

Разрешающая способность данных материалов находится на молекулярном уровне, т.к. светочувствительными центрами являются молекулы. Обычно концентрация молекул красителя в слое находится в пределах 5∙10¹⁵ см^-2 при среднем расстоянии ~18Å /14/, поэтому в слое отсутствует рассеяние света, отношение s/n ограничивается только нелинейностями. Разрешение пленок не хуже липпманновских фотографических эмульсий /164/ и превышает 1300 мм^-1 /163/ и даже 2300 мм^-1 /162/.

Рис.12. Зависимость максимального значения дифракционной эффективности η_max голограмм, записанных на образце свободнорадикальной пленки, от пространственной частоты: λ_зап = 632,8 нм; λ_счит = 632,8 нм.

Голограммы фиксировались в течение 7 мин при 140°С. Видно, что ФПМ данного образца не имеет завала до ω>2800 мм^-1. Материал позволяет записывать высококачественные голограммы 9´ 12 см диффузных объектов по схеме Ю.Н.Денисюка с ω>5000 мм^-1.

В настоящее время свободнорадикальные материалы с оптическим проявлением имеют существенный недостаток - быстрый спад чувствительности и появление вуали вследствие образования красителя при хранении в нормальных условиях. Основная причина образования красителя в темноте - окисление кислородом. Этот эффект можно исключить при хранении и использовании светочувствительных слоев в вакуумированной или инертной атмосфере /178/. Однако такие анаэробные условия мало приемлемы для практики. В /186/ разработаны материалы с оптическим проявлением, имеющие время сохранения светочувствительности к излучению he-cd и Аr ОКГ ~ 2-х месяцев при 22°С и более 12 месяцев при 6°С. Предложены композиции, термически стабильные при комнатной температуре в течение 1,5-2 лет /179,178/ ряд стабильных композиций описан в /156,180,181/.

2. В.И.Щеберстов, В.Н.Успенский, К.В.Чибисов, А.А.Слуцкин, Ж.научн. и прикладной фотогр. и кинематогр., 14, 61, 1968.

10. В.А.Барачевский, В.М.Козенков, Ю.Н.Горулайтис, Ж.научн.и прикл. фотогр. и кинематогр., 19, 161, 1974.

15. М.С.Динабург, Светочувствительные диазосоединения и их применение М.-Л.. "Химия", 1964.

58. О.Еrsоу, b.spjelkavik, k.lovaas. appl.opt., 14, 21, 1975.

72. d.rudolph, g.schmahl. umschau in wiseenschaft und tеchnic, 67, 225, 1967.

85. d.С.flanders, h.kogelnik, r.v.smiddt, c.v.shank. appl.phys.lett., 24, 194, 1974.

91. Пат. США, 3.628,849, кл.204-192, 1973.

95. r.v.schidt, d.С.flanders, c.v.shank. appl.phys.lett., 25, 651, 1974.

119. Пат. США, 3.658.526. кл. 96/27, 1972.

122. Пат. США. 3.556.790. кл. 96-27, 1971.

129. Пат. США, 3.531.281, кл. 96-115, 1970.

130. Пат. cШa, 3.549.366, кл. 96-35.1, 1970.

131. Пат. США, 3.531.282. кл. 96-48, 1970.

132. Пат. США, 3.694.218, кл. 96-35.1, 1972.

135. Пат.США, 3.479.185, кл.96-84, 1969.

136. Пат.США, 3.785.520, кл.96-115Р, 1974.

137. Пат.США, 3.380.831, кл. 96-116, 1968.

139. j.m.brot, j.robillard. c.r.acad.sci., 277, В167, 9, 1973.

142. В.l.booth. appl.opt., 11, 2994, 1972.

143. q.a.delzenne, h.К.peeters, u.l.laridon. j.phot.sci., 22, 23, 3974.

146. В.l.booth. appl.opt., 14, 593, 1975.

151. Пат. США, 3.707.371, кл. 96-27Н, 1972.

153. Пат. США, 3.809.752.

154. Пат. США, 3.809.686.

155. Пат. США, 3.708.296, кл. 96-33, 1973.

156. Пат. США, 3.612.976. кл. 96-48, 1970.

157. Пат. США, 3.493.376, кл. 96-90, 1970.

158. Пат. США, 3.486.898, кл. 96-90, 1969.

159. Пат. США, 3.042.516, кл. 96-48, 1962.

160. Пат. США, 3.042.515, кл. 96-48, 1962.

163. v.p.petro, А.С.hazy. "soc.photogr.sci. and eng. 3rd sump. unconvent. photogr.syst., washinston, d.c., p.47, 1971.

164. А.С.hazy, v.p.petro. laser focus, 8, 32, 1972.

166. Пат. США, 3.578.456, кл. 96-90, 1971.

168. Пат. США, 3.510.300. кл.96-27, 1970.

169. Пат. США, 3.732.098. кл. 98-48 Р, 1973.

170. Пат. США, 3.573.046, кл. 96-48, 1968.

171. d.r.schaller. "soc.photogr.sci. and eng. 3rd unconvent. photogr. syst.washington, d.c., р.43, 1971.

172. Пат. США, 3.361.563, кл 96-48, 1968.

173. Пат. США, 3.503.742. кл. 96-48, 1970.

174. Пат. Брит., 1.073.345, кл. 03 с 5/38, 1967.

175. Пат. США, 3.390.995, кл. 96-48, 1968.

176. Пaт. США, 3.630.735, кл. 96-48, 1971.

177. Пат. США, 3.383.212, кл. 96-48, 1968.

178. Пат. США, 3.598.592. кл. 96-85. 1971.

179. Пат. США, 3.697.272, кл. 96-27, 1972.

180. Пат. США, 3.512.977, кл. 96-48. 1970.

181. Пат. США, 3.390.996, кл. 96-48, 1968.

183. l.j.miller, j.d.margerum, j.b.rust, r.g.brault. macromoleсulеs, 7, 179, 1974.