Ждем Ваших писем...
   

 

 

СПЕКТРАЛЬНО-УГЛОВАЯ ДИАГНОСТИКА ФОТОЭМУЛЬСИОННЫХ ГОЛОГРАФИЧЕСКИХ РЕШЕТОК

В.В.Крылов, Ю.П.Удоев

Рассмотрены результаты экспериментального исследования углового и спектрального распределений дифракционной эффективности фотоэмульсионных голографических решеток пропускающего типа с пространственными частотами 1100-2400 лин/мм, приготовленных на пластинках ВРЛ, ЛОИ-2, ПЭ-2, ПФГ-03 при различны экспозициях и режимах химической обработки. С позиций теории Когельника интерпретированы особенности полученных спектральных распределений, выявлены различия между измеренными угловыми зависимостями и ожидаемыми в рамках идеальной модели фазовой решетки, обычно используемой при теоретическом анализе. На основе известных теоретических расчетов намечены критерии диагностики решеток.

Экспериментальному исследованию дифракционных свойств фотоэмульсионных голографических решеток (ФГР) посвящено много работ /1-5/. Однако в большинстве случаев исследования проведаны на фиксированной длине волны (обычно 0,63 мкм) и ограничены изучением влияния вида фотоматериала и технологии его обработки на экспозиционную характеристики. Нами было проведено комплексное исследование фазовых ФГР припускающего типа, включающее измерения спектрального распределения дифракционной эффективности (ДЭ) и угловых зависимостей ДЭ при различных условиях получения решеток. Исследование было предпринято с целью изменения возможности применения промышленных фотопластинок ЛОИ-2-633, ПЭ-2, ПФГ-03, ВРЛ для создания высокоэффективных голографических элементов, рассчитанных на роботу совместно с полупроводниковыми лазерами, однако, полученные данные представляют и более общий интерес для физики фотоэмульсионных регистрирующих сред.

ФГР записывались на длине волны 0,63 мкм на установке

 

СИН-1 в сходящихся пучках по симметричной схеме либо с делением фронта, либо с делением амплитуды волны при соотношении интенсивностей световых пучков - 1:1, имеющих S-поляризацию. Для уменьшения влияния неидентичности химической обработки и свойств фотоэмульсионных слоев на каждой пластинке записывалось несколько решеток при различных экспозициях. Пространственные частоты решеток находились в диапазоне 1100-2400 лин/мм. Химическая обработка проводилась в основно тремя способами:

А - метод Чанга-Виника (Ч-В) /6/ после проявления в Д-19;

Б - обычное отбеливание после проявления в растворе Д-19 и фиксирования;

В - отбеливание после проявления в концентрированных растворах ГП-2 и фиксирования.

Во всех случаях отбеливание производилось в растворе R-10, содержащем КJ. Характерные времена обработки: проявление в Д-19 - 5 мин, проявление в ГП-2 - 12 мин, отбеливание - 5-8 мин, фиксирование - 5 мин. ФГР, полученные путем отбеливания, дополнительно обрабатывались в осветляющем растворе сульфита натрия.

Спектральное распределение ДЭ измерялось в диапазоне 0,5-1,0 мкм в коллимированном пучке за выходной щелью монохроматора УМ-2 при падении волны под углом Брэгга. Угловые зависимости ДЭ автоматически регистрировались на длине волны 0,63 мкм с помощью установки, включающий усилитель постоянного тока, электронный потенциометр, генератор пилообразного напряжении и вращающийся столик, на котором были укреплены решетка и датчик угловых меток. Все измерения проводились при S-поляризации падающей волны.

Наиболее характерный вид спектральных распределений ДЭ для решеток с пространственной частотой 1680 лин/мм, записанных на пластинках ЛОИ-2, приведен на рис.1, где по оси ординат отложена величина относительной дифракционной эффективности h (ОДЭ) первого порядка, определяющаяся в общем случае по соотношению:

(1)

 

где n - общее число дифракционных порядков в проходящем свете, I1 и Im - интенсивности пучков первого и m-ого порядков соответственно. При обработке по методу Ч-В достигнуты высокие (~96%) значения ОДЭ в районе l = 0,63 мкм, однако, с увеличением l величина ОДЭ монотонно уменьшается (рис.1а). При отбеливании получены зависимости h (l ) как такого же (кривые 1 на рис.1б и 1в), так и другого типа, характеризующиеся наличием максимума при l = 0,8 мкм, причем величина ОДЭ в этом максимуме также является высокой (94-96%) (кривые 2 на рис.1б и 1в).

Общий характер приведенных зависимостей h (l ) можно объяснить на основе из лестного /7/ выражения для ОДЭ чисто фазовой пропускающей решетки:

(2)

где ƒ - "сила" решетки, D - амплитуда синусоидальной фазовой модуляции, Т - толщина решетки, l - рабочая длина волны в вакууме, q - внутренний угол Брэгга. Расчетные кривые h (l ) на рис.1 получены путем привязки к экспериментальным значениям при l ~ 0,63 мкм (кривая 2 на рис.1б и кривые рис.1в) и l ~ 0,78 мкм (кривые рис.1а и кривая 1 на рис.1б). При расчете учитывалось изменение внутреннего угла Брэгга с изменением l , а величина D считалась постоянной. Из (2) следует, что если при некоторой длине волны l * величина ƒ(l *) < p /2 то при l > l * ОДЭ будет уменьшаться с ростом l , а с уменьшением l - увеличиваться. При ƒ(l *)>p /2 поведение h (l ) должно быть противоположно предыдущему. Как видно из рис.1, экспериментально могут быть получены зависимости h (l ) обоих типов. Отсюда следует, что область спада h на экспозиционных характеристиках ФГР в некоторых случаях может быть связана с достижением ƒ = p /2 в максимуме этой характеристики. Надежным критерием перевала через ƒ = p /2 является спектральное поведение именно ОДЭ, а не абсолютной ДЭ, определяемой по отношению к интенсивности падающей волны.

Расхождения между расчетными и экспериментальными зависимостями h (l ) частично можно приписать влиянию дисперсии D , немонохроматичности падающей волны и недостаточной коллимированности

 

освещающего пучка. Однако в некоторых случаях эти расхождения могут быть связаны прежде всего с отличием реальных периодических структур от идеальной модели, обычно предполагаемой при теоретическом анализе. В пользу этого заключения свидетельствуют очевидные различия между реальными угловыми спектрами (рис.2-6) и известной идеальной угловой зависимостью ДЭ, для которой характерно наличие центрального брэгговского пика и ряда симметрично расположенных боковых максимумов, относительная высота которых зависит от величины ОДЭ /7-9/. Примеры экспериментальных угловых зависимостей ДЭ такого типа приведены на рис.2б и рис.4б. На этих и других рисунках стрелками показано положение первых минимумов ДЭ, рассчитанных по теории Когельника /7/; по оси абсцисс везде отложена величина угла падения относительно нормали к поверхности эмульсионного слоя. Как видно из рис.2-6 реальные спектры имеют аномалии трех типов: (1) - отсутствие боковых максимумов (рис.2а и За); (2) -наличие группы боковых максимумов, расположенных только на одном из склонов основного пика (рис.4а и 5), (3) - наличие провала ДЭ при углах падения, близких к ожидаемому положению центра брэгговского пика (рис.6). Аномалии первого типа получены ними при записи решеток на пластинках всех типов, аномалии второго типа - на пластинках ЛОИ-2, аномалии, третьего типа - в основном на пластинках ВРЛ, обработанных по методу Ч-В, причем провал ДЭ появлялся лишь при достаточно больших экспозициях и при записи решеток на достаточно "свежих" эмульсиях.

Исходя из теоретических результатов работ /10,11/ можно заключить, что отсутствие боковых максимумов связано с уменьшением величины D вдоль нормали к поверхности эмульсионного слоя, Этот эффект, частично может быть объяснен оптическим поглощением и эмульсии на стадии записи решеток и с практической точки зрения является полезным при таких применениях ФГР, в которых необходима хорошая угловая селекция анализируемых сигналов. Учитывая результаты расчетов /11/, аномалии второго типа можно объяснить искривлением плоскостей решетки. Вероятной причиной такого искривления могут быть остаточные напряжения эмульсионного слоя /11,12/. Значительное влияние этого эффекта на вид

 

угловых зависимостей ДЭ иллюстрируется рис.7, на котором приведены результаты проведенного нами расчета h (j ) для простой модельной структуры, показанной на вставке к рисунку. Расчет выполнен путем применения известных /7/ выражений для амплитуд дифрагированной и проходящей волны последовательно к двум решеткам при учете интерференции двух пар волн. возникающих во второй (наклонной) решетке. Результаты модельного расиста позволили также объяснить наблюдаемую асимметрию кривых h (j ) при изменении знаке j (рис.5б,в). Таким образом, исследование угловых зависимостей ДЭ может быть проведено методом контроля остаточных напряжений эмульсионного слоя при отработке технологии производства пластинок или непосредственно перед их применением.

Аномалии третьего типа на кривых h (j ) являются качественно новым эффектом, обусловленным, по-видимому .образованием двух решеток, смененных относительно друг друга. В пользу такого заключения свидетельствуют результаты проведенных нами расчетов h (j ) для структуры, состоящей из двух решеток с различными значениями Т, D , величины фазового сдвига y . Наиболее хорошее качественное соответствие эволюции расчетных и экспериментальных кривых h (j ) с ростом экспозиции получено для случая y = p и толщинах решеток Т1 и Т2, соответственно, 4 и 14 мкм. В качестве примера на рис.8 показаны кривые h (j ), рассчитанные при l = 0,9 мкм, l = 0,63 мкм. Возможной физической причиной образования двух решеток при обработке фотоматериала по методу Ч-В является одновременная реализация поверхностных (например, крэки) и объемных механизмов модуляции показателя преломления, аналогичных наблюдавшимся при записи решеток на бихромированной желатине /13-15/. Как непосредственно следует из расчетных данных, образование двух решеток может существенно ограничивать предельно достижимую величину ДЭ.

Таким образом, полученные экспериментальные данные и результата более ранних исследований (в частности - амплитудно-фазовых структур /16,17/) показывают, что измерения спектрального и углового распределения ДЭ являются весьма полезным инструментом для технологического контроля состояния эмульсионного слоя и диагностики параметров и структуры голографических решеток.

 

Рис.1. Расчетные (сплошные линии) и экспериментальные зависимости ОДЭ от длины волны для решеток, полученных методом Чанга-Виника (а), путем отбеливания после проявления в Д-19 (б) и путем отбеливания после проявления в растворах ГП-2 (в). Время экспонирования, мин.: 1 - 4.6, 2 - 6 (а), 1 - 2, 2 – 10 (б), 1 - 4, .2 - 1 (в).

 

а) б)

Рис.2. Угловая зависимость ДЭ для решеток с пространственной частотой ~ 1100 лин/им, записанных: на пластинках ПЭ-2 и обработанных по способу А. Время экспонирования, с.: а - 100, б - 280.

 

а) б)

Рис.3. Угловая зависимость ДЭ для решеток с пространственной частотой ~ 1700 лин/мм, записанных на пластинках ЛОИ-2 и обработанных по способу А (а) и по способу Б с дополнительной дегидратацией в изопропаноле (б).

 

а) б)

Рис.4. Угловая зависимость ДЭ для решеток с пространственной частотой ~ 1700 лин/мм, записанных на пластинках ЛОИ-2 и обработанные по способу В. Концентрации растворов и времена экспонирования: а - 10%, 8 мин, б - 34%, 4 мин.

 

а) б) в)

Рис.5. Угловая зависимость ДЭ для решеток с пространственной чистотой ~ 2400 лин/мм, записанных на пластинках ЛОИ-2 и обработанных по способу Б (а) и также с дополнительной дегидратацией В изопропаноле (б,в). б и в - освещение одной и той же решетки слева и справа от нормали.

 

а)

б)

Рис.6.

 

в)

Рис.6. Угловая зависимость ДЭ для решеток с пространственной частотой ~ 1100 лин/мм, записанных на пластинках ВРЛ и обработанных по способу А. Время экспонирования, с.: а - 2, б - 5, в - 13.

 

а) б)

Рис.7. Расчетная угловая зависимость ДЭ для сложной структуры, содержащей прямую и наклонную решётки. Параметры решеток:

а – Т1 = 9мкм, Т2 = 3 мкм, ƒ1 = ƒ2 = p /4, L = 0,8 мкм, d = 4º

б – Т1 = Т2 = 6 мкм, ƒ1 = ƒ2 = p /4, L = 0,8 мкм, d = 6º

 

а) б)

Рис.8.

 

Рис.8. Расчетная угловая зависимость ДЭ для сложной структуры, содержащей две прямые решетки с периодом О,9 мкм, сдвинутые относительно друг друга на полпериода.

Параметры решеток: а – ƒ1 = 0, ƒ2 = 5 p /16

б – ƒ1 = p /4, ƒ2 = 3p /8

в – ƒ1 = p /2, ƒ2 = p /2.

 

Литература

1. Кольер Р., Беркхарт К., Лин Л. Оптическая голография. И., 1973.

2. Регистрирующие среды для голографии. Л., 1975.

3. Кириллов Н.И. Высокоразрешающие фотоматериалы для голографии и процессы их обработки. М., 1979.

4. Syms R.R.A., Solymar L. Planar volume phase holograms formed in bleached photographic emulsions // Appl.Opt. 1933, v.22, N 10, р.1479-1496.

5. Стаселько Д.И., Чураев Л.Л. Исследование фазовых характеристик регистрирующих сред для голографии // Оптика и спектр. 1984, т.57, в.4, с.677-683.

6. Chang B.J., Winick К. Silver-halide gelatin holograms // SPIE, 1980, v.215. р.172-177.

7. Kogelnik H, Coupled wave theory for thick hologram gratings // Bell Syst. Techn. J. 1969, v.48, N 9, p.2909-2947.

8. Burckhardt С.В. Diffraction of a plane wave at a sinusoidally atratified dielectric grating // JOSA. 1966, v.56, N 11, p.1502-1509.

9. Крупицкий Э.И., Чернов Б.К. Строгая теория объемных голографических решеток и перспективы ее развития. - // Материалы 6 Всесоюзн. школы по голографии. Л., 1974, с,46-80.

10. Leith S.N. Kozma A., Upatnieks J., Marks J., Masney M. Holographic data storage in three-dimensional media // Appl. Opt. 1966, v.5, N 8, p.1303-1311.

11. Kubota T. The bending of interference fringes Inside a hologram // Optica Actica. 1979, v.26, N 6, р.731-743.

12. Friesem A.A., Walker J.L. Experimental investigation of some anomalies in photographic plates // Appl.Opt. 1969,v.8, N 7, р.1504-1506.

13. Curran R.K., Shankoff T.A. The mechanism of hologram formation in dichromated gelatin // Appl.Opt. 1970, v.9, N 7, p.1651-1657.

14. Chang В.J., Leonard C.D. Dichromated gelatin for the fabrication of holographic optical elements // Appl.Opt. 1979, v.18, N 14, p.2407-2417.

 

15. Баженов В.Ю., Бурыкин Н.М., Васнецов М.В., Волков С.В., Соснин М.С., Тараненко Б.Б. Исследование процессов образования объемных фазовых голограмм в слоях бихромированной желатины // УФЖ. 1982, т.27, № 1, с 30-36.

16. Алексеев-Попов А.В., Гевелюк С.А. Определение вкладов амплитудной и фазовой модуляции в дифракционную эффективность объемных голограмм. - // Оптическая голография. Л. 1983, с.14-24.

17. Алексеев-Попов А.В., Гевелюк С.А. Влияние сдвига между амплитудной и фазовой компонентами голограмм на ее угловую селективность. - // Тезисы докл. 5 Всесоюз.конф. по голографии. Рига, 1985, с.65-60.

Ќ § ¤‚ ­ з «®
 

Copyright © 1999-2004 MeDia-security, webmaster@media-security.ru

  MeDia-security: Новейшие суперзащитные оптические голографические технологии, разработка и изготовление оборудования для производства и нанесения голограмм.Методика применения и нанесения голограмм. Приборы контроля подлинности голограмм.  
  Новости  
от MeDia-security

Имя   

E-mail

 

СРОЧНОЕ
ИЗГОТОВЛЕНИЕ
ГОЛОГРАММ!!!

г.Москва, Россия
тел.109-7119
vigovsky@media-security.ru

Голограммы.Голограммы
на стекле.Голограммы на
плёнке.Голографические
портреты.Голографические
наклейки.Голографические
пломбы разрушаемые.
Голографические стикеры.
Голографическая фольга
горячего тиснения - фольга полиграфическая.

HOLOGRAM QUICK PRODUCTION!!!
Moscow, Russia
tel.+7(095)109-7119
vigovsky@media-security.ru

Holograms. Holograms on glass. Holographic film. Holographic portraits. Holographic labels. Holographic destructible seals. Holographic stickers. Holographic foil for hot stamping - polygraphic foil.